https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/123 Thu, 14 May 2026 17:33:15 GMT 2026-05-14T17:33:15Z https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/60336 Title: 고차 노이즈-쉐이핑 특성을 갖는 SAR 아날로그-디지털 변환 장치 Author(s): 이정협; 장재은; 김근하 https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/60336 https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/59195 Title: ELECTRICAL STIMULATION DEVICE HAVING WIDE RANGE OF OPERATING VOLTAGE Author(s): 신연재; 이정협; 강홍기; 위정윤; 장재은 Abstract: Disclosed is an electrical stimulation circuit having a wide range of operating voltage while exhibiting excellent power efficiency. The disclosed electrical stimulation circuit includes a bias circuit comprising an NMOS transistor or a PMOS transistor. The bias circuit enables the transistors to operate at a stable voltage even when the operating voltage varies above or below a threshold value. The electrical stimulation circuit has a wide range of operating voltage while exhibiting excellent power efficiency, and occupies a small area, thereby being advantageous for miniaturization. https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/59195 https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/59160 Title: 수직 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법 Author(s): 유민지; 장재은; 최원혁; 표고은; 박동혁; 박희창; 이정훈 Abstract: 본 발명의 다양한 실시예에 따른 수직 박막 트랜지스터는, 게이트 전극; 상기 게이트 전극 상에 배치되는 제1 절연층; 상기 제1 절연층 상에 배치되고 홀을 포함하는 제1 전극; 상기 제1 전극 상에 배치되는 채널층; 및 상기 채널층 상에 배치되는 제2 전극을 포함하고, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 홀을 포함하는 제2 절연층을 포함할 수 있다. 본 발명의 다양한 실시예에 따른 수직 박막 트랜지스터의 제조 방법은, 내장 마스크를 포함하는 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 홀을 포함하는 제1 전극을 형성하는 단계; 및 상기 기판 상에 홀을 포함하는 제2 절연층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/59160 https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/58777 Title: Vacuum tunneling device and method of manufacturing same Author(s): 김소희; 허수진; 장현우; 최기순; 장재은 Abstract: The invention provides a vacuum tunneling device and a method for manufacturing the same. The method comprises the following steps: forming a tunneling device on a substrate; forming an insulating interlayer on the substrate, wherein the insulating interlayer is provided with an opening for exposing the tunneling device; and performing a tilted deposition process in the vacuum chamber to form a sealing layer on the insulating interlayer such that the sealing layer fills an upper portion of the opening. https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/58777