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    <pubDate>Mon, 03 Aug 2026 13:32:47 GMT</pubDate>
    <dc:date>2026-08-03T13:32:47Z</dc:date>
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      <title>온감 측정 장치, 온감 측정 시스템 및 그것의 온감 측정 방법</title>
      <link>https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/60558</link>
      <description>Title: 온감 측정 장치, 온감 측정 시스템 및 그것의 온감 측정 방법
Author(s): 최유빈; 김항겸; 김회준
Abstract: 본 발명의 실시예에 따른 온감 측정 장치는, 온도 구배가 내부에 발생함에 따라 전기를 생성하는 초전 소자부, 및 상기 초전 소자부의 일측부에 연결되고 상기 초전 소자부를 상온과 다른 설정 온도로 유지하도록 상기 초전 소자부에 열기 또는 냉기를 제공하는 온도 조절부를 포함한다.</description>
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      <title>입자 측정장치 및 이의 제조방법</title>
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      <description>Title: 입자 측정장치 및 이의 제조방법
Author(s): 김회준; 장일류</description>
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      <title>물질 계측 센서, 물질 계측 시스템 및 물질 계측 방법</title>
      <link>https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/60242</link>
      <description>Title: 물질 계측 센서, 물질 계측 시스템 및 물질 계측 방법
Author(s): 장일류; 김회준</description>
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      <title>반도체 제조공정에서 발생하는 입자 측정을 위한 입자 저감 시스템 및 그 측정 방법(PARTICLE ABATEMENT SYSTEM FOR PARTICLE MEASUREMENT FROM SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS AND MEASUREMENT METHOD THEREFOR)</title>
      <link>https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/59316</link>
      <description>Title: 반도체 제조공정에서 발생하는 입자 측정을 위한 입자 저감 시스템 및 그 측정 방법(PARTICLE ABATEMENT SYSTEM FOR PARTICLE MEASUREMENT FROM SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS AND MEASUREMENT METHOD THEREFOR)
Author(s): 김회준; 장일류
Abstract: 본 발명은 반도체 제조공정에서 발생하는 입자 측정을 위한 입자 저감 시스템이 개시된다. 본 발명의 하나의 실시 예에 따른 반도체 제조공정에서 발생하는 입자 측정을 위한 입자 저감 시스템은 반도체 장비의 배기라인에 결합되는 배관부; 상기 배관부의 일부에 형성되어 있는 센서 삽입부에 삽입되며 오염입자를 감지하기 위한 압전 공진 센서가 구비되어 있는 센서 플레이트; 및 상기 센서 삽입부와 이격되어 형성되어 있는 상기 배관부의 오리피스 결합부에 결합되는 오리피스; 를 포함한다.</description>
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