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Article
A bilayer diffusion barrier of Ru/WSixNy for advanced Cu interconnects
  • Eom, Tae-Kwang ; 
  • Sari, Windu ; 
  • Cheon, Taehoon ; 
  • Kim, Soo-Hyun ; 
  • Kim, Woo Kyoung
  • 2012-10
  • Eom, Tae-Kwang. (2012-10). A bilayer diffusion barrier of Ru/WSixNy for advanced Cu interconnects. doi: 10.1016/j.tsf.2012.03.068
  • Elsevier BV
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