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dc.contributor.author 심규민 -
dc.contributor.author 정대성 -
dc.date.accessioned 2020-08-20T09:04:57Z -
dc.date.available 2020-08-20T09:04:57Z -
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/20.500.11750/12285 -
dc.description.abstract 본 발명은 저온 용액 공정을 이용하여 유기 반도체 고분자 패턴을 제조하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게 기판의 제1영역을 표면처리하여 표면성질을 변화시키고, 유기 반도체 고분자를 포함하는 에멀전을 기판 위에 코팅한 후 알코올로 세척하는 단위 코팅 공정을 통해 유기 반도체 패턴을 제조하는 방법에 관한 것이다. -
dc.title 저온 용액 공정을 이용한 유기 반도체 고분자 패턴의 제조방법 -
dc.title.alternative Method of forming organic polymer semiconductor pattern by low-temperature solution process -
dc.type Patent -
dc.publisher.country KO -
dc.identifier.patentApplicationNumber 10-2018-0096302 -
dc.date.application 2018-08-17 -
dc.identifier.patentRegistrationNumber 10-2108040 -
dc.date.registration 2020-04-29 -
dc.contributor.assignee (재)대구경북과학기술원(100/100) -
dc.type.iprs 특허 -
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Department of Energy Science and Engineering Polymer Energy Materials Lab 3. Patents

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