비스무트 정제 방법 및 비스무트 정제장치

Abstract

본 발명은 비스무트 정제방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 비스무트 입자의 손상 없이 단시간 내에 비스무트 입자 표면에 위치하는 비스무트 표면 산화물을 제거하여, 고순도의 비스무트 입자를 수득할 수 있는 비스무트 정제방법에 관한 것이다. 본 발명의 비스무트 정제방법은 표면 산화된 비스무트 입자를 비산화성 산 용액 내에서 초음파 처리하여, 비스무트 입자 표면에 위치하는 비스무트 표면 산화물을 제거하는 것을 특징으로 한다.