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ZnO:Al:Ag 패시베이션 층의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 ZnO:Al:Ag 패시베이션 층
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dc.contributor.author 김재현 -
dc.contributor.author 백성호 -
dc.contributor.author 피로즈칸 -
dc.date.accessioned 2018-07-11T12:22:00Z -
dc.date.available 2018-07-11T12:22:00Z -
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/20.500.11750/8102 -
dc.description.abstract 본 발명은 ZnO:Al:Ag 패시베이션 층의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 ZnO:Al:Ag 패시베이션 층에 관한 것으로, 구체적으로는 ZnO:Al:Ag 전구체 용액을 실리콘 웨이퍼 상에 스핀 코팅하여 코팅막을 형성하는 단계(단계 1); 상기 단계 1의 코팅막을 400 ℃ 내지 700 ℃의 온도로 열처리하는 단계(단계 2);를 포함하는 ZnO:Al:Ag 패시베이션 층의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 ZnO:Al:Ag 패시베이션 층의 제조방법에 따르면, 종래에 비해 원료가 저렴하며 제조공정이 간단한 장점이 있고, 특정 은, 알루미늄 몰비의 전구체로부터 특정 온도에서 열처리함으로써 우수한 유효 캐리어 수명을 갖는 실리콘 웨이퍼를 제조할 수 있다. -
dc.title ZnO:Al:Ag 패시베이션 층의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 ZnO:Al:Ag 패시베이션 층 -
dc.title.alternative Method for manufacturing of ZnO:Al:Ag passivation layer and ZnO:Al:Ag passivation layer thereof -
dc.type Patent -
dc.identifier.bibliographicCitation 김재현. ZnO:Al:Ag 패시베이션 층의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 ZnO:Al:Ag 패시베이션 층. -
dc.publisher.country KO -
dc.identifier.patentApplicationNumber 10-2014-0157939 -
dc.date.application 2014-11-13 -
dc.identifier.patentRegistrationNumber 10-1554565 -
dc.date.registration 2015-09-15 -
dc.contributor.assignee (재)대구경북과학기술원(100/100) -
dc.description.claim ZnO:Al:Ag 전구체 용액을 실리콘 웨이퍼 상에 스핀 코팅하여 코팅막을 형성하는 단계(단계 1);상기 단계 1의 코팅막을 400 ℃ 내지 700 ℃의 온도로 열처리하는 단계(단계 2);를 포함하는 ZnO:Al:Ag 패시베이션 층의 제조방법. -
dc.type.iprs 특허 -
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