Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 오병윤 | - |
| dc.contributor.author | 백성호 | - |
| dc.contributor.author | 장환수 | - |
| dc.contributor.author | 김재현 | - |
| dc.contributor.author | 최호진 | - |
| dc.contributor.author | 김성빈 | - |
| dc.date.accessioned | 2018-07-11T12:45:09Z | - |
| dc.date.available | 2018-07-11T12:45:09Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/20.500.11750/8726 | - |
| dc.description.abstract | 실리콘 웨이퍼 위에 마스크층을 패터닝하는 단계; 상기 마스크층으로 덮이지 않은 상기 실리콘 웨이퍼의 일부를 금속촉매 화학적 식각하는 단계; 상기 금속촉매 화학적 식각 이후 상기 실리콘 웨이퍼로부터 잔존 금속을 제거하는 단계; 상기 잔존 금속 제거 이후 상기 마스크층을 제거하여 에치 피트가 형성된 실리콘 웨이퍼를 얻는 단계; 및 상기 에치 피트가 형성된 상기 실리콘 웨이퍼를 전기화학적 식각 처리하여 실리콘 와이어 어레이를 형성하는 단계를 포함하는 실리콘 와이어 구조체의 제조방법이 제공된다. | - |
| dc.title | 실리콘 와이어 구조체의 제조방법 | - |
| dc.title.alternative | Fabricating method of silicon wire structure | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2010-0077669 | - |
| dc.date.application | 2010-08-12 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1264877 | - |
| dc.date.registration | 2013-05-09 | - |
| dc.contributor.assignee | (재)대구경북과학기술원(100/100) | - |
| dc.description.claim | 실리콘 웨이퍼 위에 마스크층을 패터닝하는 단계;상기 마스크층으로 덮이지 않은 상기 실리콘 웨이퍼의 일부를 금속촉매 화학적 식각하는 단계;상기 금속촉매 화학적 식각 이후 상기 실리콘 웨이퍼로부터 잔존 금속을 제거하는 단계;상기 잔존 금속 제거 이후 상기 마스크층을 제거하여 에치 피트가 형성된 실리콘 웨이퍼를 얻는 단계; 및상기 에치 피트가 형성된 상기 실리콘 웨이퍼를 전기화학적 식각 처리하여 실리콘 와이어 어레이를 형성하는 단계를 포함하는 실리콘 와이어 구조체의 제조방법. | - |
| dc.type.iprs | 특허 | - |
- Files in This Item:
-
There are no files associated with this item.
- Appears in Collections:
- Division of Energy & Environmental Technology 3. Patents
Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.