다공성의 금속 할라이드 박막 또는 후막 제조방법
- Title
- 다공성의 금속 할라이드 박막 또는 후막 제조방법
- Alternative Title
- Method of manufacturing thin-film or thick-film of porous metal halides
- Country
- KO
- Application Date
- 2015-11-03
- Application No.
- 10-2015-0154037
- Registration Date
- 2017-08-21
- Publication No.
- 10-1771568
- Assignee
- (재)대구경북과학기술원(100/100)
- Abstract
- 본 발명은 다공성의 금속 할라이드 박막 또는 후막 제조방법에 관한 것으로서, 상기 제조방법은 태양전지의 효율을 높일 수 있는 다공성 구조를 갖는 금속 할라이드 박막 또는 후막을 제조할 수 있는 새로운 방법을 제시한다. 다공성의 금속 할라이드 박막 또는 후막 제조방법은 다공성 금속 할라이드 박막 또는 후막을 통해 반응 후 잔여 금속 할라이드를 최소화할 수 있으며, 습막 상태의 금속 할라이드에 대기 중 수분이거나, 외부에서 수분을 분사하여 수분을 공급함으로써 금속 할라이드 박막의 기공 정도를 제어할 수 있어, 잔여 금속 할라이드가 남는 것을 방지함으로써 고효율 태양전지를 합성할 수 있는 매우 유용한 기술이다.
- Related Researcher
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Kim, Dae-Hwan
- Research Interests Solar Cells; 태양전지; Thin Film Deposition; 박막 증착; Atomic Layer Deposition; 원자층 증착; CIGS; CZTS; Sb chalcogenides; 안티모니 칼코지나이드
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- Appears in Collections:
- Division of Energy & Environmental Technology 3. Patents
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