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다공성의 금속 할라이드 박막 또는 후막 제조방법

Title
다공성의 금속 할라이드 박막 또는 후막 제조방법
Translated Title
Method of manufacturing thin-film or thick-film of porous metal halides
Inventors
김대환김세윤성시준김강필
DGIST Inventors
김대환; 성시준; 김강필
Country
KO
Application Date
2015-11-03
Application No.
10-2015-0154037
Registration Date
2017-08-21
Registration No.
10-1771568
Assignee
(재)대구경북과학기술원(100/100)
URI
http://hdl.handle.net/20.500.11750/8863
https://doi.org/10.8080/1020150154037KIPRIS
Abstract
본 발명은 다공성의 금속 할라이드 박막 또는 후막 제조방법에 관한 것으로서, 상기 제조방법은 태양전지의 효율을 높일 수 있는 다공성 구조를 갖는 금속 할라이드 박막 또는 후막을 제조할 수 있는 새로운 방법을 제시한다. 다공성의 금속 할라이드 박막 또는 후막 제조방법은 다공성 금속 할라이드 박막 또는 후막을 통해 반응 후 잔여 금속 할라이드를 최소화할 수 있으며, 습막 상태의 금속 할라이드에 대기 중 수분이거나, 외부에서 수분을 분사하여 수분을 공급함으로써 금속 할라이드 박막의 기공 정도를 제어할 수 있어, 잔여 금속 할라이드가 남는 것을 방지함으로써 고효율 태양전지를 합성할 수 있는 매우 유용한 기술이다.
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Convergence Research Center for Solar Energy3. Patents


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