3차원 전극장치의 제조방법 및 이의 제조방법으로 제조된 3차원 전극장치

Abstract

본 발명은 3차원 전극장치의 제조방법 및 이의 제조방법으로 제조된 3차원 전극장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 망막에 손상을 가하지 않고 망막에 밀착하여 망막에 전기적 자극을 가할 수 있는 3차원 전극장치의 제조방법 및 이의 제조방법으로 제조된 3차원 전극장치에 관한 것이다. 본 발명은 a) 웨이퍼의 일면에 규소층을 증착시키고, 상기 규소층을 기설정된 형상으로 패터닝하는 단계; b) 일면에 상기 규소층이 패터닝된 상기 웨이퍼의 타면에 금속층을 증착시키고, 상기 금속층을 기설정된 형상으로 패터닝하는 단계; c) 상기 금속층이 패터닝된 상기 웨이퍼의 타면에 가공홀을 형성하는 단계; d) 형성된 상기 가공홀에 기판부를 형성하는 단계; e) 상기 기판부가 형성된 상기 웨이퍼의 일면을 식각하여 전극부를 형성하는 단계; 및 f) 형성된 상기 전극부의 상단부에 증착층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 기판부는 상기 망막 및 광수용체층의 형상에 대응하여 변형되도록 마련되어, 상기 전극부를 상기 망막에 밀착시키는 것을 특징으로 하는 3차원 전극장치의 제조방법을 제공한다.