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저온 용액 공정을 이용한 유기 반도체 고분자 패턴의 제조방법
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- Title
- 저온 용액 공정을 이용한 유기 반도체 고분자 패턴의 제조방법
- Alternative Title
- Method of forming organic polymer semiconductor pattern by low-temperature solution process
- Country
- KO
- Application Date
- 2018-08-17
- Application No.
- 10-2018-0096302
- Registration Date
- 2020-04-29
- Publication No.
- 10-2108040
- Assignee
- (재)대구경북과학기술원(100/100)
- Abstract
-
본 발명은 저온 용액 공정을 이용하여 유기 반도체 고분자 패턴을 제조하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게 기판의 제1영역을 표면처리하여 표면성질을 변화시키고, 유기 반도체 고분자를 포함하는 에멀전을 기판 위에 코팅한 후 알코올로 세척하는 단위 코팅 공정을 통해 유기 반도체 패턴을 제조하는 방법에 관한 것이다.
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