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본 발명은 캐패시터형 보안 소자의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 캐패시터형 보안 소자를 개시한다. 본 발명은 기판 상에 유전체층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 기판 상에 유전체층을 형성하는 단계는, 상기 기판 상에 제1 절연층을 형성하는 단계; 상기 제1 절연층 상에 용액 공정을 이용하여 고유전체층을 형성하는 단계; 및 상기 고유전체층 상에 제2 절연층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
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