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dc.contributor.author양기정ko
dc.contributor.author김대환ko
dc.contributor.author성시준ko
dc.contributor.author최병대ko
dc.contributor.author강진규ko
dc.contributor.author도윤선ko
dc.date.accessioned2018-07-11T12:14:29Z-
dc.date.available2018-07-11T12:14:29Z-
dc.date.issued2008-09-19-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.11750/7894-
dc.description.abstract본 발명은 액정 디스플레이용 경화성 조성물 및 이를 이용하여 제조된 격벽과 배향막을 포함하는 액정 디스플레이에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 올리고머 말단 한쪽 이상에 광경화가 가능한 작용기를 포함한 올리고머를 포함하는 경화성 조성물에 편광 자외선을 조사하여 화학적 이방성을 갖도록 형성된 격벽 또는 배향막을 액정 디스플레이 소자에 적용함으로써, 기존의 격벽과 배향막을 포함하는 액정 디스플레이 소자에서 문제점이었던 격벽과 액정 영역의 계면에서의 불량한 액정 배향을 개선할 수 있다.-
dc.title액정 디스플레이용 경화성 조성물 및 이를 이용하여 제조된격벽 및 배향막을 포함하는 액정 디스플레이-
dc.title.alternativeCURABLE COMPOSITION FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY COMPRISING BARRIER RIB AND ALIGNMENT LAYER MANUFACTURED USING THE SAME-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor양기정-
dc.contributor.localauthor김대환-
dc.contributor.localauthor성시준-
dc.contributor.localauthor최병대-
dc.contributor.localauthor강진규-
dc.contributor.nonIdAuthor도윤선-
dc.publisher.countryKO-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2008-0092180-
dc.date.application2008-09-19-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-0936518-
dc.date.registration2010-01-05-
dc.contributor.assignee(재)대구경북과학기술원(100/100)-
dc.description.claim하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 경화성 조성물: [화학식 1] [이미지] 상기 식 중, P는 치환 또는 비치환된 C2-C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C2-C20의 헤테로알킬렌기이고, A는 시나메이트, 쿠마린, 칼콘 및 그의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되고, Y는 카보닐, 아미드, 티오에스테르, 설폭사이드 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되거나 존재하지 않을 수 있다.-
dc.description.claim하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 경화성 조성물: [화학식 1] [이미지] 상기 식 중, P는 치환 또는 비치환된 C2-C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C2-C20의 헤테로알킬렌기이고, A는 시나메이트, 쿠마린, 칼콘 및 그의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되고, Y는 카보닐, 아미드, 티오에스테르, 설폭사이드 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되거나 존재하지 않을 수 있다.-
dc.description.claim하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 경화성 조성물: [화학식 1] [이미지] 상기 식 중, P는 치환 또는 비치환된 C2-C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C2-C20의 헤테로알킬렌기이고, A는 시나메이트, 쿠마린, 칼콘 및 그의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되고, Y는 카보닐, 아미드, 티오에스테르, 설폭사이드 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되거나 존재하지 않을 수 있다.-
dc.identifier.iprsType특허-


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