Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 한윤수 | - |
dc.contributor.author | 허성현 | - |
dc.contributor.author | 김참 | - |
dc.contributor.author | 김동환 | - |
dc.contributor.author | 김호영 | - |
dc.date.accessioned | 2018-07-11T12:23:25Z | - |
dc.date.available | 2018-07-11T12:23:25Z | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/20.500.11750/8135 | - |
dc.description.abstract | 일 실시예에 따른 분말 열처리 장치는, 분말이 장입되며 열처리가 진행되는 반응관, 상기 반응관을 둘러싸도록 상기 반응관의 외부에 배치되는 외부관, 상기 반응관 및 상기 외부관을 회전시키는 회전 장치를 포함한다. 상기 반응관은 길이 방향에 수직인 방향으로의 단면이 다각형 형상을 가지는 반응실을 포함하고, 상기 반응관 및 상기 외부관 사이의 공간에는 소정의 분위기 가스를 공급함으로써 상기 반응관을 외부 환경으로부터 격리시킨다. | - |
dc.title | 분말 열처리 장치 | - |
dc.title.alternative | Powder heat treatment equipment | - |
dc.type | Patent | - |
dc.publisher.country | KO | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2009-0131594 | - |
dc.date.application | 2009-12-28 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1132285 | - |
dc.date.registration | 2012-03-26 | - |
dc.contributor.assignee | (재)대구경북과학기술원(100/100) | - |
dc.description.claim | 분말 열처리 장치에 있어서,분말이 장입되며 열처리가 진행되며 길이 방향에 수직인 방향으로의 단면이 다각형 형상인 반응실을 포함하는 반응관;상기 반응관을 둘러싸도록 상기 반응관의 외부에 배치되어 상기 반응관을 외부 환경으로부터 격리하는 외부관; 상기 반응관 및 상기 외부관을 회전시키는 회전 장치; 및상기 반응관에는 반응가스를 제공하고, 상기 반응관과 상기 외부관 사이의 공간에는 상기 반응 가스가 유출될 경우 이를 중화 또는 희석시키는 소정의 분위기 가스를 공급하는 가스 공급장치;를 포함하는 분말 열처리 장치. | - |
dc.type.iprs | 특허 | - |
There are no files associated with this item.