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dc.contributor.author 손대호 ko
dc.contributor.author 강진규 ko
dc.contributor.author 황대규 ko
dc.contributor.author 성시준 ko
dc.contributor.author 김대환 ko
dc.date.accessioned 2018-07-11T12:35:02Z -
dc.date.available 2018-07-11T12:35:02Z -
dc.date.issued 2011-11-17 -
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/20.500.11750/8454 -
dc.description.abstract 비휘발성 저항 변화 메모리 소자가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 비휘발성 저항 변화 메모리 소자는 기판 상에 형성된 하부 전극, 하부 전극 상에 형성되고 탄탈늄(Ta), 하프늄(Hf), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 바나듐(V) 및 이트륨(Y) 중 적어도 1종의 금속 물질을 포함하는 사원계의 산화물 반도체 박막; 및 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함한다. -
dc.title 비휘발성 저항 변화 메모리 소자 -
dc.title.alternative NON-VOLATILE RESISTANCE MEMORY DEVICE -
dc.type Patent -
dc.type.rims PAT -
dc.identifier.bibliographicCitation 손대호. (2011-11-17). 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.publisher.country KO -
dc.identifier.patentApplicationNumber 10-2011-0120208 -
dc.date.application 2011-11-17 -
dc.identifier.patentRegistrationNumber 10-1283767 -
dc.date.registration 2013-07-02 -
dc.contributor.assignee (재)대구경북과학기술원(100/100) -
dc.description.claim 기판 상에 형성된 하부 전극;상기 하부 전극 상에 형성되고, TaInSnO로 이루어진 사원계의 산화물 반도체 박막; 및상기 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 산화물 반도체 박막은, 금속 함유량은 원자 개수 조성 비율 (At %)은 Ta/(In+Sn)= 0.2~ 0.5, In/(Ta+Sn) = 1.5 ~ 3.0 및 Sn/(Ta+In) = 0.07 ~ 0.09 내이며, Ta 비율을 조절하여 전기적 특성을 변화시키는 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.description.claim 기판 상에 형성된 하부 전극;상기 하부 전극 상에 형성되고, TaInSnO로 이루어진 사원계의 산화물 반도체 박막; 및상기 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 산화물 반도체 박막은, 금속 함유량은 원자 개수 조성 비율 (At %)은 Ta/(In+Sn)= 0.2~ 0.5, In/(Ta+Sn) = 1.5 ~ 3.0 및 Sn/(Ta+In) = 0.07 ~ 0.09 내이며, Ta 비율을 조절하여 전기적 특성을 변화시키는 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.description.claim 기판 상에 형성된 하부 전극;상기 하부 전극 상에 형성되고, TaInSnO로 이루어진 사원계의 산화물 반도체 박막; 및상기 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 산화물 반도체 박막은, 금속 함유량은 원자 개수 조성 비율 (At %)은 Ta/(In+Sn)= 0.2~ 0.5, In/(Ta+Sn) = 1.5 ~ 3.0 및 Sn/(Ta+In) = 0.07 ~ 0.09 내이며, Ta 비율을 조절하여 전기적 특성을 변화시키는 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.description.claim 기판 상에 형성된 하부 전극;상기 하부 전극 상에 형성되고, TaInSnO로 이루어진 사원계의 산화물 반도체 박막; 및상기 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 산화물 반도체 박막은, 금속 함유량은 원자 개수 조성 비율 (At %)은 Ta/(In+Sn)= 0.2~ 0.5, In/(Ta+Sn) = 1.5 ~ 3.0 및 Sn/(Ta+In) = 0.07 ~ 0.09 내이며, Ta 비율을 조절하여 전기적 특성을 변화시키는 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.description.claim 기판 상에 형성된 하부 전극;상기 하부 전극 상에 형성되고, TaInSnO로 이루어진 사원계의 산화물 반도체 박막; 및상기 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 산화물 반도체 박막은, 금속 함유량은 원자 개수 조성 비율 (At %)은 Ta/(In+Sn)= 0.2~ 0.5, In/(Ta+Sn) = 1.5 ~ 3.0 및 Sn/(Ta+In) = 0.07 ~ 0.09 내이며, Ta 비율을 조절하여 전기적 특성을 변화시키는 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.description.claim 기판 상에 형성된 하부 전극;상기 하부 전극 상에 형성되고, TaInSnO로 이루어진 사원계의 산화물 반도체 박막; 및상기 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 산화물 반도체 박막은, 금속 함유량은 원자 개수 조성 비율 (At %)은 Ta/(In+Sn)= 0.2~ 0.5, In/(Ta+Sn) = 1.5 ~ 3.0 및 Sn/(Ta+In) = 0.07 ~ 0.09 내이며, Ta 비율을 조절하여 전기적 특성을 변화시키는 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.description.claim 기판 상에 형성된 하부 전극;상기 하부 전극 상에 형성되고, TaInSnO로 이루어진 사원계의 산화물 반도체 박막; 및상기 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 산화물 반도체 박막은, 금속 함유량은 원자 개수 조성 비율 (At %)은 Ta/(In+Sn)= 0.2~ 0.5, In/(Ta+Sn) = 1.5 ~ 3.0 및 Sn/(Ta+In) = 0.07 ~ 0.09 내이며, Ta 비율을 조절하여 전기적 특성을 변화시키는 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.description.claim 기판 상에 형성된 하부 전극;상기 하부 전극 상에 형성되고, TaInSnO로 이루어진 사원계의 산화물 반도체 박막; 및상기 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 산화물 반도체 박막은, 금속 함유량은 원자 개수 조성 비율 (At %)은 Ta/(In+Sn)= 0.2~ 0.5, In/(Ta+Sn) = 1.5 ~ 3.0 및 Sn/(Ta+In) = 0.07 ~ 0.09 내이며, Ta 비율을 조절하여 전기적 특성을 변화시키는 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.description.claim 기판 상에 형성된 하부 전극;상기 하부 전극 상에 형성되고, TaInSnO로 이루어진 사원계의 산화물 반도체 박막; 및상기 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 산화물 반도체 박막은, 금속 함유량은 원자 개수 조성 비율 (At %)은 Ta/(In+Sn)= 0.2~ 0.5, In/(Ta+Sn) = 1.5 ~ 3.0 및 Sn/(Ta+In) = 0.07 ~ 0.09 내이며, Ta 비율을 조절하여 전기적 특성을 변화시키는 비휘발성 저항 변화 메모리 소자. -
dc.identifier.iprsType 특허 -
dc.contributor.affiliatedAuthor 손대호 -
dc.contributor.affiliatedAuthor 강진규 -
dc.contributor.affiliatedAuthor 황대규 -
dc.contributor.affiliatedAuthor 성시준 -
dc.contributor.affiliatedAuthor 김대환 -
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강진규
Kang, Jin-Kyu강진규

Division of Energy & Environmental Technology

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