Full metadata record
DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 최호진 | - |
dc.contributor.author | 장환수 | - |
dc.contributor.author | 김재현 | - |
dc.contributor.author | 백성호 | - |
dc.date.accessioned | 2018-07-11T12:48:48Z | - |
dc.date.available | 2018-07-11T12:48:48Z | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/20.500.11750/8827 | - |
dc.description.abstract | 실리콘 기판 표면에 에칭 마스크를 패터닝하는 단계; 및 상기 에칭 마스크가 패터닝된 상기 실리콘 기판 표면에 대해 화학적 에칭을 수행하는 단계를 포함하되, 상기 화학적 에칭은 식각 용액의 조성, 식각 시간, 식각 용액의 온도로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나의 공정 조건을 연속적으로 변화시켜 수행함으로써, 길이 방향의 직경이 변하는 실리콘 와이어를 형성하는 다직경 실리콘 와이어 구조체의 제조방법이 제공된다. | - |
dc.title | 다직경 실리콘 와이어 구조체의 제조방법 | - |
dc.title.alternative | Fabricating method of multi-diameter silicon wire structure | - |
dc.type | Patent | - |
dc.publisher.country | KO | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2011-0029666 | - |
dc.date.application | 2011-03-31 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1164113 | - |
dc.date.registration | 2012-07-03 | - |
dc.contributor.assignee | (재)대구경북과학기술원(100/100) | - |
dc.description.claim | 실리콘 기판 표면에 에칭 마스크를 패터닝하는 단계; 및상기 에칭 마스크가 패터닝된 상기 실리콘 기판 표면에 대해 화학적 에칭을 수행하는 단계를 포함하되,상기 화학적 에칭은 식각 용액의 조성, 식각 시간, 식각 용액의 온도로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나의 공정 조건을 연속적으로 변화시켜 수행함으로써, 길이 방향의 직경이 변하는 실리콘 와이어를 형성하는 실리콘 와이어 구조체의 제조방법. | - |
dc.type.iprs | 특허 | - |
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