Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 이수재 | - |
| dc.contributor.author | 이은우 | - |
| dc.contributor.author | 박순용 | - |
| dc.contributor.author | 안시현 | - |
| dc.contributor.author | 강진규 | - |
| dc.contributor.author | 이동하 | - |
| dc.contributor.author | 전찬욱 | - |
| dc.contributor.author | 김대환 | - |
| dc.date.accessioned | 2018-07-11T12:48:50Z | - |
| dc.date.available | 2018-07-11T12:48:50Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/20.500.11750/8828 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은, 본체와, 이 본체 내에 구비되고 증착물질을 수용하되 개구된 상부에는 밀폐를 위한 커버가 결합되고 하부에는 다공판으로 된 분사구가 형성된 도가니와, 이 도가니의 중간높이에서 도가니를 둘러싸도록 배치되고서 고주파 유도전류가 인가되는 제1코일 및, 이 제1코일의 아래에서 상기 도가니의 분사구를 둘러싸도록 배치되며 고주파 유도전류가 인가되는 제2코일을 포함하는 하향식 증발원과 이를 구비한 증착장치에 관한 것으로, 본 발명에 의하면 적어도 하나의 증발원을 증착장치의 챔버의 상부에 배치하여 분자선이 아래로 공급될 수 있도록 하고서 고주파 유도가열을 이용함으로써, 대면적 기판에 형성되는 박막의 균일도를 확보하고 소스의 가열시간을 단축할 수 있어 저비용의 박막제조가 가능하게 되는 효과가 있게 된다. | - |
| dc.title | 하향식 증발원과 이를 구비한 증착장치 | - |
| dc.title.alternative | Downward type deposition source and deposition apparatus having the same | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2009-0076790 | - |
| dc.date.application | 2009-08-19 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1125008 | - |
| dc.date.registration | 2012-03-02 | - |
| dc.contributor.assignee | (재)대구경북과학기술원(100/100) | - |
| dc.description.claim | 본체와, 이 본체 내에 구비되고 증착물질을 수용하되 개구된 상부에는 밀폐를 위한 커버가 결합되고 하부에는 다공판으로 된 분사구가 형성된 도가니와, 이 도가니의 중간높이에서 도가니를 둘러싸도록 배치되고서 고주파 유도전류가 인가되는 제1코일 및, 이 제1코일의 아래에서 상기 도가니의 분사구를 둘러싸도록 배치되며 고주파 유도전류가 인가되는 제2코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 하향식 증발원. | - |
| dc.type.iprs | 특허 | - |
- Files in This Item:
-
There are no files associated with this item.
- Appears in Collections:
- Division of Intelligent Robotics 3. Patents
- Division of Energy Technology 3. Patents
Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.