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dc.contributor.author 이승민 -
dc.contributor.author 양지웅 -
dc.contributor.author 박수익 -
dc.contributor.author 최문기 -
dc.date.accessioned 2023-11-01T02:10:25Z -
dc.date.available 2023-11-01T02:10:25Z -
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/20.500.11750/46580 -
dc.description.abstract 본 발명은 양자점 다층 박막의 적층 전사 인쇄 방법 및 이를 통해 제조된 양자점 다층 박막을 개시한다. 본 발명은 제1 기판 상에 자가조립 단분자막을 형성하는 단계; 상기 자가조립 단분자막 상에 제1 스탬프를 사용하여 제1 전하를 갖도록 표면처리된 양자점 박막 및 제2 전하를 갖도록 표면처리된 양자점 박막을 적어도 1회 이상 교차 적층 전사하여 양자점 다층 박막을 형성하는 단계; 및 상기 양자점 다층 박막을 제2 스탬프를 사용하여 픽업하여 제2 기판 상에 전사하는 단계; 를 포함하는 것을 특징를 포함하는 것을 특징으로 한다. -
dc.title 양자점 다층 박막의 적층 전사 인쇄 방법 및 이를 통해 제조된 양자점 다층 박막 -
dc.title.alternative STACK TRANSFER PRINTING METHOD FOR QUANTUM DOT MULTILAYER AND QUANTUM DOT MULTILAYER MANUFACTURED BY THE METHOD -
dc.type Patent -
dc.publisher.country KO -
dc.identifier.patentApplicationNumber 10-2020-0166804 -
dc.date.application 2020-12-02 -
dc.identifier.patentRegistrationNumber 10-2587824 -
dc.date.registration 2023-10-05 -
dc.contributor.assignee (재)대구경북과학기술원(50/50),울산과학기술원(50/50) -
dc.type.iprs 특허 -
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Department of Energy Science and Engineering NanoMaterials Laboratory 3. Patents

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