최적 빔 스캐닝을 위한 변수 조절 방법

Abstract

본 발명은 최적 빔 스캐닝을 위한 변수 조절 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 프로세싱 장치에 의해 수행되는 최적 빔 스캐닝을 위한 변수 조절 방법에 있어서, 2축에 대해 각각 기 설정된 주파수 범위 내에서 주파수 조합을 선택하는 단계; 선택된 주파수 조합에 대해 소수점 최대공약수를 산출하는 단계; 상기 소수점 최대공약수가 기 설정된 이미징 속도 범위에 속하는지 여부를 판단하는 단계; 상기 소수점 최대공약수가 상기 기 설정된 이미징 속도 범위에 속하는 것으로 판단되면, 이미징 파라미터를 결정하는 단계; 결정된 이미징 파라미터에 대해 최대 스캐닝 밀도 및 최적 시간 지연 차이를 획득하는 단계; 상기 최대 스캐닝 밀도가 기 설정된 밀도 이상을 만족하는지 여부를 판단하는 단계; 및 상기 최대 스캐닝 밀도가 상기 기 설정된 밀도 이상이면 해당 주파수 조합, 이미징 파라미터 및 최적 시간 지연 차이를 최적 빔 스캐닝 조건으로 선택하는 단계를 포함한다. 이와 같이 본 발명에 따르면, 소수점을 가진 주파수 조합에서 반복 리사쥬 패턴을 형성할 수 있는 조합을 분석함으로써 선택 가능한 주파수 조합의 경우의 수가 많아지게 된다. 또한, 주파수 조합뿐만 아니라 위상에 관한 최적화 과정도 수행하여 최적의 리사쥬 스캐닝을 위한 스캐닝 조건을 결정할 수 있다.