비휘발성 저항 변화 메모리 소자

Abstract

비휘발성 저항 변화 메모리 소자가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 비휘발성 저항 변화 메모리 소자는 기판 상에 형성된 하부 전극, 하부 전극 상에 형성되고 탄탈늄(Ta), 하프늄(Hf), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 바나듐(V) 및 이트륨(Y) 중 적어도 1종의 금속 물질을 포함하는 사원계의 산화물 반도체 박막; 및 반도체 박막 상에 형성된 상부 전극을 포함한다.