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dc.contributor.author 장재은 -
dc.contributor.author 양재훈 -
dc.contributor.author 허수진 -
dc.contributor.author 신정희 -
dc.date.accessioned 2020-02-25T02:57:17Z -
dc.date.available 2020-02-25T02:57:17Z -
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/20.500.11750/11335 -
dc.description.abstract 본 발명의 일 실시예에 따르면, 기판 상에 배치된 게이트 전극; 상기 게이트 전극 상에 배치된 제1절연층; 상기 제1절연층 상에 배치되며, 상기 게이트 전극에 의해 발생한 전기장이 통과할 수 있는 적어도 하나의 통로(path)를 포함하는 제1전극; 상기 제1절연층 상에 상기 제1전극을 덮도록 배치된 제2절연층; 및 상기 제2절연층 상에 배치된 제2전극을 포함하는, 터널링 트랜지스터를 제공한다. -
dc.title 터널링 트랜지스터 및 이의 제조 방법 -
dc.title.alternative Tunneling Transistor and manufacturing the same -
dc.type Patent -
dc.publisher.country KO -
dc.identifier.patentApplicationNumber 10-2017-0114685 -
dc.date.application 2017-09-07 -
dc.identifier.patentRegistrationNumber 10-1967445 -
dc.date.registration 2019-04-03 -
dc.contributor.assignee (재)대구경북과학기술원(100/100) -
dc.type.iprs 특허 -
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Department of Electrical Engineering and Computer Science Advanced Electronic Devices Research Group(AEDRG) - Jang Lab. 3. Patents

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