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모놀리식 3차원 소자의 상부층 고결정화 방법 및 이를 통해 제조된 모놀리식 3차원 소자

Title
모놀리식 3차원 소자의 상부층 고결정화 방법 및 이를 통해 제조된 모놀리식 3차원 소자
Alternative Title
Method for high crystallization of upper layer of a Monolithc 3D device and Monolithc 3D device manufactured by the same
Author(s)
권혁준송총명정희재
Country
KO
Application Date
2021-01-28
Application No.
10-2021-0012510
Registration Date
2022-11-22
Publication No.
10-2470876
Assignee
재단법인대구경북과학기술원
URI
http://hdl.handle.net/20.500.11750/17273 10-2021-0012510
Abstract
본 발명의 다양한 실시예에는, 모놀리식 3차원(Monolithic 3D) 구조에 적용할 수 있는 새로운 결정화 방법을 제공할 수 있다. 본 발명의 다양한 실시예에 따른 모놀리식 3차원 소자의 상부층 고결정화 방법은, 절연막이 형성된 하부 소자를 준비하는 단계; 상기 절연막 상에 비정질 실리콘계 층을 증착하는 단계; 상기 비정질 실리콘계 층 상에 쉐브론 패턴을 포함하는 마스크를 형성하는 단계; 상기 비정질 실리콘계 층을 쉐브론 패턴으로 패터닝하는 단계; 및 상기 패터닝된 비정질 실리콘계 층에 레이저를 조사하는 단계를 포함한다.
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Department of Electrical Engineering and Computer Science Advanced Electronic Devices Research Group(AEDRG) - Kwon Lab. 3. Patents

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