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수직 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법
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dc.contributor.author 유민지 -
dc.contributor.author 장재은 -
dc.contributor.author 최원혁 -
dc.contributor.author 표고은 -
dc.contributor.author 박동혁 -
dc.contributor.author 박희창 -
dc.contributor.author 이정훈 -
dc.date.accessioned 2025-11-13T15:10:09Z -
dc.date.available 2025-11-13T15:10:09Z -
dc.identifier.uri https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/59160 -
dc.description.abstract 본 발명의 다양한 실시예에 따른 수직 박막 트랜지스터는, 게이트 전극; 상기 게이트 전극 상에 배치되는 제1 절연층; 상기 제1 절연층 상에 배치되고 홀을 포함하는 제1 전극; 상기 제1 전극 상에 배치되는 채널층; 및 상기 채널층 상에 배치되는 제2 전극을 포함하고, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 홀을 포함하는 제2 절연층을 포함할 수 있다. 본 발명의 다양한 실시예에 따른 수직 박막 트랜지스터의 제조 방법은, 내장 마스크를 포함하는 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 홀을 포함하는 제1 전극을 형성하는 단계; 및 상기 기판 상에 홀을 포함하는 제2 절연층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. -
dc.title 수직 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법 -
dc.title.alternative Vertical Thin Film Transistor and method of manufacturing for the same -
dc.type Patent -
dc.publisher.country KO -
dc.identifier.patentApplicationNumber 10-2024-0119163 -
dc.date.application 2024-09-03 -
dc.identifier.patentRegistrationNumber 10-2884720 -
dc.date.registration 2025-11-06 -
dc.contributor.assignee (재)대구경북과학기술원(100/100) -
dc.type.iprs 특허 -
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장재은
Jang, Jae Eun장재은

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