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수직 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법
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Title
수직 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법
Alternative Title
Vertical Thin Film Transistor and method of manufacturing for the same
Country
KO
Application Date
2024-09-03
Application No.
10-2024-0119163
Registration Date
2025-11-06
Publication No.
10-2884720
Assignee
(재)대구경북과학기술원(100/100)
URI
https://scholar.dgist.ac.kr/handle/20.500.11750/59160 10-2024-0119163
Abstract
본 발명의 다양한 실시예에 따른 수직 박막 트랜지스터는, 게이트 전극; 상기 게이트 전극 상에 배치되는 제1 절연층; 상기 제1 절연층 상에 배치되고 홀을 포함하는 제1 전극; 상기 제1 전극 상에 배치되는 채널층; 및 상기 채널층 상에 배치되는 제2 전극을 포함하고, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 홀을 포함하는 제2 절연층을 포함할 수 있다. 본 발명의 다양한 실시예에 따른 수직 박막 트랜지스터의 제조 방법은, 내장 마스크를 포함하는 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 홀을 포함하는 제1 전극을 형성하는 단계; 및 상기 기판 상에 홀을 포함하는 제2 절연층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
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장재은
Jang, Jae Eun장재은

Department of Electrical Engineering and Computer Science

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